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使用硅光電池時(shí)需注意的事項(xiàng)

鉅大鋰電  |  點(diǎn)擊量:0  |  2020年12月08日  

使用硅光電池時(shí)注意以下事項(xiàng)


硅光電池是一種將光能直接轉(zhuǎn)化為電能的半導(dǎo)體器件。它的結(jié)構(gòu)很簡(jiǎn)單,核心部分是一個(gè)大面積的pn結(jié),將一個(gè)透明的玻璃外殼點(diǎn)接觸型二極管和一個(gè)微安計(jì)成閉合回路,當(dāng)管核心(pn結(jié)二極管燈),你會(huì)看到他的手轉(zhuǎn)移微安表,顯示在洋流,這種現(xiàn)象稱為光生v的效果。硅光電池的PN結(jié)面積比二極管大得多,因此光出現(xiàn)的電動(dòng)勢(shì)和電流也大得多。使用硅光電池時(shí)注意以下事項(xiàng):


使用硅光電池時(shí)應(yīng)注意以下事項(xiàng):


①硅光電池的輸出特性與負(fù)載有關(guān)。在一定光照條件下,當(dāng)負(fù)載很小時(shí),硅光電池的輸出電流趨近于短路電流;而在負(fù)載很小時(shí),輸出電壓則趨于開(kāi)路電壓。因此,在使用硅光電池時(shí),只有確定好負(fù)載電阻為某一數(shù)值時(shí),才能獲得最大功率輸出。


②硅光電池可以串、并聯(lián)使用,以滿足所要的電壓或電流值。


③硅光電池的表面有一層抗反射膜,使用時(shí)應(yīng)防止損傷其表面,如表面出現(xiàn)污垢,可用酒精棉球輕輕擦拭。


④使用時(shí),應(yīng)使硅光電池不受外界環(huán)境干擾,以免出現(xiàn)誤信號(hào)。

晶體硅


晶體硅光電池有單晶硅和多晶硅兩種,以P型(或n型)硅襯底,通過(guò)磷(或硼)擴(kuò)散形成Pn結(jié)而生產(chǎn),生產(chǎn)技術(shù)成熟,是光伏市場(chǎng)的主導(dǎo)產(chǎn)品。埋藏電極,表面鈍化,加劇了陷阱,密集的網(wǎng)格技術(shù),優(yōu)化電極和電極接觸,等采用提高載體材料的收集效率,優(yōu)化anti-reflection電影,凹凸表面,高反射電極和其他方法,光電轉(zhuǎn)換效率大大提高。單晶硅光電管面積是有限的,更大的晶圓的Φ10到20厘米,年產(chǎn)量46兆瓦/能力。目前的重要任務(wù)是繼續(xù)擴(kuò)大行業(yè)規(guī)模,發(fā)展彩帶硅光電池技術(shù),提高材料的利用率。國(guó)際公認(rèn)的AM1.5條件下的最高效率為24%,AM0條件下的高質(zhì)量效率約為13.5?18%,AM1條件下的地面量產(chǎn)11?18%。用定向凝固法制備的多晶硅錠代替單晶硅可以降低成本,但降低了生產(chǎn)效率。對(duì)銀漿、鋁漿的前、后電極絲印、切割、研磨、鑄造工藝進(jìn)行優(yōu)化,進(jìn)一步降低成本,提高效率。大晶粒多晶硅光電池的轉(zhuǎn)換效率可達(dá)18.6%。


非晶硅


非晶硅光電池是通過(guò)高頻輝光放電分解和沉積硅烷氣體而形成的。由于分解沉積溫度較低,可在玻璃、不銹鋼板、陶瓷板、柔性塑料板上沉積約1m厚的薄膜,易于大面積轉(zhuǎn)換(0.5m×1.0m),成本低,結(jié)構(gòu)上多采用p。為了提高效率和穩(wěn)定性,有時(shí)將其分為三層,如pIn,或插入一些過(guò)渡層。工業(yè)生產(chǎn)持續(xù)上升,年生產(chǎn)量力45MW/a,投產(chǎn)10MW生產(chǎn)線。全球市場(chǎng)月耗電量約為1000萬(wàn)塊,在薄膜電池領(lǐng)域排名第一。組裝成型a-si光電池組的發(fā)展,激光切割有效面積90%以上,小面積轉(zhuǎn)換效率提高到14.6%,大面積轉(zhuǎn)換效率為8-10%,層合結(jié)構(gòu)最大效率為21%。發(fā)展的趨勢(shì)是改善薄膜的特性,精確設(shè)計(jì)光伏電池的結(jié)構(gòu),控制每一層的厚度,改善各層之間的界面,以達(dá)到高效率和高穩(wěn)定性。


多晶硅


P-si(多晶硅,包括微晶)光電池沒(méi)有光降解用途,當(dāng)材料質(zhì)量下降時(shí)光電池也不會(huì)受到影響。采用液相外延法在單晶硅襯底上制備的p-si光電池的轉(zhuǎn)換效率為15.3%,通過(guò)細(xì)化襯底和增強(qiáng)調(diào)光工藝可將轉(zhuǎn)換效率提高到23.7%。采用CVD法制備的p-si光電池的轉(zhuǎn)換效率約為12.6~17.3%。使用廉價(jià)襯底的P-si薄膜生長(zhǎng)方法包括PECVD法和熱線法,或a-si:H材料薄膜的后處理以實(shí)現(xiàn)低溫固相結(jié)晶,可生產(chǎn)效率分別為9.8%和9.2%的非降解電池。微晶硅薄膜的生長(zhǎng)符合a-si工藝,光電性能好,穩(wěn)定性好。大面積的低溫p-si膜和-si構(gòu)成層狀電池結(jié)構(gòu),是提高A-s光電池穩(wěn)定性和轉(zhuǎn)換效率,充分利用太陽(yáng)光譜的重要途徑。理論計(jì)算表明,效率可達(dá)28%以上,這將導(dǎo)致硅基薄膜光電池性能的突破。銅、銦、硒光電池

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